氯化氫的純度直接決定了氯化氫的應(yīng)用領(lǐng)域。高純度氯化氫要求純度大于99.999%，總雜質(zhì)含量小于5ppm，可以應(yīng)用于電子工業(yè)中半導(dǎo)體材料生產(chǎn)企業(yè)在單晶硅片氣相拋光、外延基座腐蝕和硬質(zhì)合金鍍膜工藝中使用。

    要保證純度合格，必須嚴(yán)格控制氯氫處理各控制點保證H2、CL2含水指標(biāo)達(dá)到要求減少對合成爐燈頭是否腐蝕。2、H2、CL2壓力的影響：為了保證生產(chǎn)安全平穩(wěn)運行，我們工藝要求進(jìn)入合成爐的H2壓力不低于80Kpa但不大于85KPa。主要是保證高的H2壓力可以給操作工爭取在H2急劇下降的情況下爭取調(diào)節(jié)的時間。而如果H2壓力 高于85Kpa時，H2就會在氫氣分配臺自動排空，造成浪費。CL2壓 力運行中我們一般保持在140Kpa左右平穩(wěn)運行，過低HCL純度達(dá)不到要求太高就會自動走事故氯系統(tǒng)。所以保證HCL氣體純度高且 安全穩(wěn)定的另外一個非常主要的前提是H2、CL2壓力平穩(wěn)無太大的 波動。3、CL2與H2配比的影響：經(jīng)處理后合格的CL2與H2經(jīng)過流量計、 調(diào)節(jié)閥與切斷閥在合成 爐石英燈頭處進(jìn)行燃燒生成HCL氣體。按照理論CL2和H2完全燃 燒是按照摩爾質(zhì)量1:1完全發(fā)生反應(yīng)，而PVC實際生產(chǎn)要求HCL氣 體中不能含有游離氯 （因為微量的游離氯能與乙炔氣迅速的發(fā)生反應(yīng) 生成具有爆炸性的氯乙炔氣體引發(fā)事故） ，所以在實際生產(chǎn)中我們要求H2過量于CL2 0.05--0.1摩爾體積，保證產(chǎn)品氣HCL中不含有游離氯。在實際操作過程中，需嚴(yán)格要求DCS操作工準(zhǔn)確熟練地及時根據(jù)H2、CL2的壓力來調(diào)節(jié)進(jìn)合成爐的兩種氣體配比，確保生產(chǎn)安全的前提下保證HCL純度。4、其它原因影響：除了上述提出的主要影響因素外，影響HCL純度的其它因素還有儀表流量計自控閥的準(zhǔn)確度和其它工序生產(chǎn)波動等諸多原因。

    我公司專業(yè)經(jīng)營高純氯化氫、氯化氫、高純氯氣、氯氣、硫化氫等產(chǎn)品，產(chǎn)品質(zhì)量好，價格公道，深受行業(yè)的好評，是最值得信賴的高純氯供應(yīng)基地。歡迎新老用戶前來咨詢洽談！